IBM is bezig met de ontwikkeling van een nieuwe technologie die onder de naam High-K/metal gate door het leven moet gaan. Opmerkelijk aan deze technologie is het feit dat halfgeleiders veel minder energie nodig hebben om hun werk te kunnen uitvoeren.
Chips die door IBM gebakken zijn met deze technologie laten zien dat er een snelheidswinst mogelijk is van 30 procent vergeleken met de huidige chips, terwijl het energieverbruik met zo’n 50 procent naar beneden gaat.
Om het verschil tussen de nieuwe chips en de oude chips te laten zien maakte IBM gebruik van een benchmark die metingen doet naar de snelheden en energieopname van de chips. De nieuwe chip die in de benchmark gebruikt werd had een spoorbreedte van 32 nm en de oude chip had een spoorbreedte van 45 nm.
Er komen wel een aantal nadelige gevolgen om de hoek kijken bij het verkleinen van de chips. Zo hebben de isolatielagen er behoorlijk onder te leiden, want deze worden langzamerhands steeds dunner. Om problemen te voorkomen worden er door IBM speciale maatregelen getroffen die het mogelijk maken dat een paar honderd atomen toch een goede isolerende werking hebben. Onder deze speciale maatregelen valt onder andere de K-waarde. Deze technologie zorgt er namelijk voor dat de isolatiewaarde van het desbetreffende stuk isolatielaag verhoogd kan worden. IBM is echter niet de enige die bezig is met deze techniek, want ook Intel is deze techniek volop aan het ontwikkelen.
De kort samengevatte doelstelling van IBM op chip-gebied betreft het bouwen van zo zuinig mogelijke chips die toch over een behoorlijke performance beschikken. Met de High-K/metal gate-techniek lijkt het erop dat IBM daarmee op de goede weg zit.
2 uur geleden
