ASML heeft EUV-doorbraak: 50 procent meer chips in afzienbare tijd

ASML heeft EUV-doorbraak: 50 procent meer chips in afzienbare tijd

ASML heeft een technologische doorbraak bereikt die de productie van geavanceerde chips tegen het einde van het decennium met maar liefst 50 procent kan verhogen. Het Nederlandse bedrijf wist het vermogen van de lichtbron in zijn extreme ultraviolet (EUV) lithografiemachines op te voeren naar 1000 watt, een forse stap tegenover de huidige 600 watt.

Dat licht het bedrijf toe in een interview aan Reuters. “Het is geen parlortruc of iets waarbij we heel kort kunnen aantonen dat het werkt”, stelt Michael Purvis, Lead Technologist bij ASML. “Het is een systeem dat 1000 watt kan produceren onder dezelfde eisen die je bij een klant zou zien.”

De nieuwe vermogenssprong betekent dat fabrieken tegen 2030 ongeveer 330 siliciumwafers per uur kunnen verwerken, tegen 220 nu. Elk wafer bevat afhankelijk van de chipgrootte tientallen tot duizenden chips. “We willen ervoor zorgen dat onze klanten EUV tegen veel lagere kosten kunnen blijven gebruiken”, aldus Teun van Gogh, Executive Vice President Business Line EUV NXE bij ASML.

Complexe oplossing met tindruppels heter dan de zon

ASML bereikt de vermogensverhoging door te verdubbelen wat al tot een zeer complexe menselijke uitvindingen behoort. Om licht te produceren met een golflengte van 13,5 nanometer, schiet de machine een stroom gesmolten tindruppels door een kamer. Een enorme CO2-laser verhit ze tot plasma, een oververhitte materietoestand waarin de tindruppels heter worden dan de zon en EUV-licht uitstralen. Precisie-optiek van het Duitse Carl Zeiss vangt dit licht op en voert het naar de machine om chips te printen.

De belangrijkste vooruitgang betreft het verdubbelen van het aantal tindruppels naar ongeveer 100.000 per seconde. Daarnaast gebruikt het systeem nu twee kleinere laserstralen om de druppels vorm te geven, in plaats van één zoals in huidige machines. “Het is heel uitdagend, omdat je veel dingen moet beheersen, veel technologieën”, zegt Jorge J. Rocca, professor aan Colorado State University die zich richt op lasertechnologieën en verschillende ASML-wetenschappers heeft opgeleid. “Wat er werd bereikt – een kilowatt – is behoorlijk verbazingwekkend.”

ASML gelooft dat de technieken voor 1000 watt verdere vooruitgang mogelijk maken. Purvis ziet “een redelijk duidelijk pad naar 1500 watt, en geen fundamentele reden waarom we niet 2000 watt zouden kunnen halen.”

Tip: ASML-orders bijna dubbel zo hoog als verwacht dankzij AI-vraag