‘Huawei Kirin 985 zal eerste EUV-chip worden bij TSMC’

Stay tuned, abonneer!

Afgelopen jaar heeft Huawei een grote stap voorwaarts gezet in de smartphonewereld. Hun vlaggenschepen blijven innoveren en de Kirin-chips worden steeds krachtiger. Volgens bronnen zou dit jaar ’s werelds eerste massaproductie EUV-chip van de band rollen onder de noemer Kirin 985.

Extreme Ultra Violet of EUV is de heilige graal binnen de chipwereld. Intel werkt er al aan sinds 2000 en heeft tot op vandaag nog geen EUV-proces klaar voor massaproductie. De volgende verkleining naar 10 nm staat gepland eind dit jaar, maar 7 nm EUV kent bij Intel nog geen deadline.

Samsung staat vandaag al verder dan Intel met risicoproductie van 7 nm EUV. Tot op vandaag is het nog niet bekend welke eerste massaproductiechip van de band zal rollen, maar Samsung zit TSMC op de hielen qua ontwikkelingssnelheid.

Risicoproductie

TSMC is vandaag net als Samsung al bezig met risicoproductie van 7 nm EUV, maar lijkt stilaan tevreden te zijn van de opbrengsten. WCCFTech rapporteert dat Huawei de allereerste fabrikant zou zijn die EUV-chips van TSMC commercieel zal gebruiken in toekomstige smartphones.

De eerste chip die aan de beurt zou zijn, is de voorlopig onbekende Huawei Kirin 985. Mogelijk gaat het hier om de opvolger van de huidige Kirin 980 die vandaag in de Huawei Mate 20 Pro zit. Huawei was eind vorig jaar al de eerste die een 7 nm-chip lanceerde op IFA in Berlijn. Het zou ons daarom niet verbazen mocht Huawei opnieuw met de EUV-primeur willen pronken.

Het huidige 7 nm-proces van TSMC heet N7. De EUV-variant krijgt de naam N7+ en is volgens bronnen 10 procent energiezuiniger. Dankzij EUV kan ook de transistordensiteit worden verhoogd met 20 procent.

Waarom EUV?

Vandaag gebruikt iedereen een Argon Fluoride (ArF)-laser die een diep UV-licht produceert met een golflengte van 193 nm. Dankzij een techniek genaamd immersielithografie kunnen ze de resolutie verhogen, maar sommige complexe functies moeten ze vandaag in meerdere stappen doorlopen. EUV-lithografie genereert licht met een golflengte van 13,5 nm.

EUV heeft heel wat voordelen. Zo krijg je een beter resultaat op vlak van patroonefficiëntie en minder variabiliteit in dimensie. Kort samengevat: wat je print is wat je effectief krijgt. Samsung claimt dat de nieuwe tools 70 procent correctere patronen afleveren vergeleken met de 193 nm ArF-tools.

Het allerbelangrijkste is echter de budgetbesparing die EUV met zich meebrengt. Op 7 nm kan de machine contacten en bepaalde metaallagen met één stap maken, terwijl dat bij 193 nm ArF meerdere belichtingen nodig heeft.

Gerelateerd: Hoe EUV-lithografie een stoelendans in processorland veroorzaakt