Het Vlaamse techonderzoekslab imec en ASML gaan gezamenlijk nieuwe processors ontwikkelen met behulp van de zogenoemde high-numerical aperture (High-NA) extreme ultraviolet (EUV) lithography-technologie. Hiervoor wordt een experimentele productielijn opgezet binnen imec.
Volgens beide partijen moet de samenwerking, en in het bijzonder van de High-NA EUV-technologie, leiden tot een beter begrip van de voordelen van geavanceerde chiptechnologie en het ontwikkelen van een prototype-platform om innovatie op dit gebied te ondersteunen.
Meer specifiek willen imec en ASML en andere partners nieuwe chipapplicaties ontwikkelen, meer duurzame productiemethoden voor chipfabrikanten en gebruikers. Verder is het onderzoek erop gericht zogenoemde geavanceerde ‘holistic patterning flows’ te ontwikkelen voor de ecosystemen rondom fabricage-apparatuur en grondstoffen.
In lijn met Chips Act
Uiteindelijk moeten al deze ontwikkelingen nieuwe high-performance energie-efficiënte processors en ook AI-systemen opleveren. Een gedeelte van de nu bevestigde samenwerking tussen imec en ASML is daarom gevat in een IPCEI-voorstel dat nu door de Nederlandse regering wordt bekeken. Ook is de pilot in lijn met de EU Chips Act, dat de chipproductie op het eigen continent tracht te stimuleren.
Gebruikte ASML-apparatuur
Onderdeel van de samenwerking is de installatie van een experimentele productielijn met ASML-apparatuur bij imec in het Belgische Leuven. Deze productiecapaciteit bestaat onder meer uit de laatste 0.55 NA EUV (TWINSCAN EXE:5200) -, 0.33 NA EUV (TWINSCAN NXE:3800) -, DUV immersion (TWINSCAN NXT:2100i) -machines, Yieldstar optische- en HMI multi-beam-technologie.
De eerste fases van het onderzoek vindt plaats met een ASML TWINSCAN EXE:5000 High-NA EUV scanner in het gezamenlijke imec-ASML High-NA lab. De tweede fase, die op de productielijn bij imec zal plaatsvinden, gebruikt de eerder genoemde next-generation ASML TWINSCAN EXE:5200 High-NA EUV scanner.
Lees ook: ASML gaat fors investeren in onderzoeksfaciliteit aan TU Eindhoven