Het Taiwanese TSMC verwacht over twee jaar de modernste high-NA EUV-chipmachine van ASML in gebruik te nemen. Met deze tweedegeneratie ultraviolet lithografie-technologie wil de chipfabrikant nog meer innoveren.

Aangezien TSMC zijn processen voor massaproductie met deze geavanceerde machine en productiemethode nog niet op orde heeft, zal de high-NA EUV-machine van ASML in 2024 nog voornamelijk worden ingezet voor onderzoek.

High-NA EUV-technologie

De high-NA EUV-machine van ASML is de meest geavanceerde chipfabricagemachine ter wereld. De machine gebruikt voor het maakproces extreme ultraviolet straling voor het maken van kleine circuits op computer chips. De chipfabrikant verwacht verder dat de machine tegen 2025 actief zal worden ingezet voor de massaproductie van chips, zo schrijft Reuters.

2-nanometer-technologie

TSMC gaf onlangs ook details over zijn nieuwe 2-nanometer (N2)-technologie. Deze technologie moet meer snelheid en minder energieverbruik brengen dan de bestaande 3-nanomter (N3)-technologie. De N2-technologie bestaat uit een ‘nanosheet’ transistorarchitectuur die betere prestaties en minder energieverbruik voor de op deze technologie geproduceerde chips moet brengen. Dit moet dan weer leiden tot nieuwe innovaties.

Het N2-platform komt in verschillende varianten, zoals een high performance-variant, een mobiele compute baseline-versie en diverse chiplet integratie-oplossingen. De N2-chips moeten vanaf 2025 in productie gaan.

Andere nieuwe aangekondigde technologie omvat onder meer de functionaliteit TSMC FINFLEX voor de N3- en de N3e -chips. Daarnaast is er een nieuwe N6e-architectuur aangekondigd die vooral geschikt is voor edge IoT- en AI-devices, aldus de chipproducent.

Tip: ‘Chipfabrikanten investeren 104 miljard euro in productiecapaciteit’