ASML levert in de komende maanden de eerste high-NA-EUV-chipproductiemachine voor massaproductie. Daarmee wordt de eerder gecommuniceerde levering van 2025 iets gespecificeerd.
ASML levert de eerste modules van de TwinScan EXE:5200 in de komende maanden aan een klant, bevestigt ASML-ceo Christophe Fouquet tijdens een persevenement tegenover Tweakers. Het was al langer bekend dat Intel de eerste klant is.
De topman zegt dat de eerste EXE:5200-modules ‘gefinaliseerd’ zijn, hoewel het bedrijf in de toekomst blijft doorwerken aan het verhogen van de productiviteit van high-NA, onder meer door het vermogen van de lichtbron en de snelheid van de waferstage te verhogen.
Op 19 januari kondigde ASML al aan dat Intel een eerste bestelling plaatste voor de levering van het allereerste TwinScan EXE:5200-systeem in de industrie. Dit is een extreem ultraviolet (EUV) productieapparaat met een hoge numerieke apertuur. En een productiviteit van meer dan 200 wafers per uur. Deze eerste bestelling maakt volgens een persbericht deel uit van het langetermijnsamenwerkingsverband tussen de twee bedrijven op het gebied van High-NA (High Numerical Aperture). De huidige apparatuur zou met wat kleine aanpassingen mogelijk ook mee gaan draaien.
Intel al pionier bij introductie TwinScan EXE:5000
Intel kondigde tijdens het Accelerated-evenement in juli aan dat het als eerste High-NA-technologie zal inzetten om de volgende generatie transistorinnovaties mogelijk te maken. De chipfabrikant was in 2018 de eerste klant die het TwinScan EXE:5000-systeem kocht. Met de nieuwe aankoop zet de samenwerking tussen Intel en ASML zich voort om dit jaar High-NA EUV in productie te nemen.
Intel heeft ook als eerste bedrijf een productieproces op basis van high-NA op zijn roadmap staan in de vorm van 14A, dat in de loop van 2026 geïntroduceerd moet worden. De machine zal geleverd worden aan Intels fabriek in Oregon, waar het bedrijf het gros van zijn r&d-werkzaamheden uitvoert.
Evolutionaire stap
Het EXE-platform is een evolutionaire stap in EUV-technologie en omvat een innovatief optisch ontwerp en aanzienlijk snellere reticle- en waferstages. De TwinScan EXE:5000 en EXE:5200-systemen beschikken over een numerieke apertuur van 0,55 – een aanzienlijke precisieverbetering ten opzichte van eerdere EUV-machines met een 0,33 NA-lens. Hierdoor kunnen nog kleinere transistorstructuren worden geëtst. De combinatie van de numerieke apertuur en de gebruikte golflengte bepaalt de kleinste printbare structuren.