ASML gaat nog dit jaar voor het eerst een scanner voor “High-NA” EUV-lithografie leveren, belooft CEO Peter Wennink. Een onbekende klant krijgt de primeur om als eerste deze tool voor R&D-doeleinden te kunnen gebruiken. De kans is groot dat het om Intel gaat.
De Twinscan EXE:5000 wordt een ‘pilot’-scanner genoemd. Het stelt chipbedrijven in staat om bekend te raken met de nieuwe fabricagetechniek voordat massaproductie mogelijk is. In 2025 zou de Twinscan EXE:5200 ervoor moeten zorgen dat chips op grote schaal geproduceerd kunnen worden. De machine maakt het mogelijk om EUV (extreme ultraviolet)-technologie toe te passen met een scherpere resolutie. Deze resolutie wordt veelal gedefinieerd met numerieke apertuur (NA): hoe dichter dat getal bij de 1 ligt, hoe scherper. Eerder kon ASML al 0,33 NA EUV-machines leveren, terwijl de nieuwe scanner 0,55 NA bereikt.
Specifiek gaat het hier om processoren die gebruikmaken van een kleiner fabricageproces dan wat momenteel mogelijk is: 5 en 4 nanometer zijn momenteel de meest geavanceerde ‘nodes’ die op grote schaal worden ingezet. 3 nm wordt dit jaar voor het eerst gebruikt door TSMC, zoals bij Apple’s A17-chip voor de aanstaande iPhone 15.
Lees ook: iPhone 15 wordt op 12 september onthuld: wat mogen we verwachten?
Essentieel voor de meest geavanceerde chips, maar peperduur
Wennink vertelde Reuters dat de machines wat later op de markt komen dan voorheen gedacht. “Een paar leveranciers hadden wat moeite om hun productie op te hogen en om het juiste niveau van technologische kwaliteit te bereiken, dus dat leidde tot wat vertraging. Maar: de eerste levering is nog steeds dit jaar.”
De verwachting van Tom’s Hardware is dat Intel de ontvanger zal zijn van de eerste EXE:5000 om zich voor te bereiden op de eerste chips met een productieproces onder de 18 Angström, oftewel 1,8 nanometer. De machine zal wel peperduur zijn: de schatting van Anandtech en andere bronnen ligt tussen de 300-400 miljoen dollar, aanzienlijk meer dan de 200 miljoen die een 0,33 NA EUV-scanner kost.
Daarnaast zullen de fabrieken van chipgiganten weer op de schop moeten. Niet alleen EUV-scanners, maar ook vernieuwde optica en een grotere lichtbron zijn nodig om de kleinere chipprocessen mogelijk te maken. Dit alles leidt zoals gebruikelijk wel tot efficiëntieverhogingen binnen moderne chips, met continue innovatie om prestaties te blijven verbeteren per chipgeneratie.
Overigens zullen deze machines niet naar China geëxporteerd worden wegens restricties die Nederland hierop heeft gelegd. De oudere DUV (deep ultraviolet)-apparatuur mag nog tot het einde van dit jaar geleverd worden aan dat land om aan contractuele verplichtingen te voldoen.
Lees ook: ASML mag nog tot begin 2024 DUV-machines aan China leveren
2 dagen geleden
Expert bijdrage
